你是否曾經(jīng)想過,我們的半導(dǎo)體晶圓在生產(chǎn)過程中會遇到良率下降的問題?良率下降不僅意味著生產(chǎn)成本的增加,更意味著我們失去了一次創(chuàng)新的機會。而這個問題,其實與清洗的設(shè)備、液體純度、顆粒物、金屬離子等都有關(guān)。
在半導(dǎo)體的生產(chǎn)過程中,清洗是必不可少的環(huán)節(jié)。從硅片制造開始到芯片封裝,晶圓有30%-40%的時間處于清洗。清洗可以去除晶圓表面的污垢、顆粒物和金屬離子等雜質(zhì),從而確保產(chǎn)品的質(zhì)量和性能。在清洗過程中,如果清洗液的純度不夠高,或者清洗設(shè)備的技術(shù)不夠先進(jìn),不僅很難徹底去除這些雜質(zhì),還會析析出或形成新的污染物,對晶圓造成損傷。
凱磁醫(yī)療的全磁懸浮潔凈泵采用了先進(jìn)的全磁懸浮技術(shù)的潔凈泵,利用磁場力使槳葉懸浮于空氣中,并通過磁場控制和每秒數(shù)萬次的高頻率監(jiān)測,使槳葉實現(xiàn)穩(wěn)定懸浮和高速旋轉(zhuǎn),從而驅(qū)動泵內(nèi)液體穩(wěn)定地輸送。這種無接觸、無磨損的技術(shù)不僅可以保證液體的純度。其次,高純度材料的過流組件,確保在液體輸送過程中不會析出污染物,有效防止顆粒物和金屬離子的引入,提高制程品良率。
此外,半導(dǎo)體晶圓的清洗還需要考慮到各種因素,如流量、壓力等等。而全磁懸浮潔凈泵可以通過精確控制這些參數(shù),實現(xiàn)對晶圓表面進(jìn)行高效、均勻的清洗。這不僅可以提高產(chǎn)品的良率,還能夠縮短生產(chǎn)周期,降低生產(chǎn)成本。
凱磁醫(yī)療的全磁懸浮潔凈泵作為一種先進(jìn)的清洗設(shè)備,在半導(dǎo)體晶圓的生產(chǎn)過程中以其獨特優(yōu)勢扮演著重要的角色。不僅能夠?qū)崿F(xiàn)晶圓高效、高純度的清洗,確保生產(chǎn)工藝,還能夠提高產(chǎn)品的良率,降低生產(chǎn)成本。